年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮 (Naetrojene Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热來实现其应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作為氧化剂和推进剂使⽤.

Nitrogen trifluoride, foromo ea lik'hemik'hale NF3, ke ntho e matla ea oxidizing. Joaloka khase e khethehileng ea indasteri ea bohlokoa, e na le mefuta e mengata ea lisebelisoa.
Indastering ea microelectronics, nitrogen trifluoride ke khase e ntle ka ho fetisisa ea plasma etching; Ka har'a semiconductor chip, float panel display, optical fiber, photovoltaic cell le likarolo tse ling tsa tlhahiso, nitrogen trifluoride e sebelisoa haholo-holo e le plasma etching gas le reaction reaction cavity clean agent.
E ka boela ea sebelisoa ho li-laser tsa lik'hemik'hale tse nang le matla a phahameng ho finyella ts'ebeliso ea eona ka ho itšoara ka hydrogen ho ntša mocheso o mongata ka ho panya ha leihlo. Nitrogen trifluoride e boetse e sebelisoa e le mafura a nang le matla a mangata hape e le sehlaseli le se susumetsang ha ho qhomisoa lirokete.